Une approche photolithographique des nanocouches réticulées à résolution spatiale
Karlsruhe Institute of Technology
Abstract
La préparation de nanofeuilles réticulées avec une épaisseur de 1 à 2 nm et une forme prédéfinie a été réalisée par immobilisation lithographique de triméthacryloyl thioalcanoates sur la surface de plaquettes de Si, qui ont été fonctionnalisées avec des groupes 2- (phénacylthio) acétamido via une réaction photoinduite. Une réticulation subséquente par polymérisation radicalaire ainsi qu'une réaction Diels – Alder photo-déclenchée dans des conditions douces à la surface ont conduit aux nanofeuillets souhaités. La spectrométrie de masse à ionisation électrospray (ESI-MS), la spectroscopie photoélectronique aux rayons X (XPS), la spectrométrie de masse des ions secondaires à temps de vol (ToF-SIMS), ainsi que la spectroscopie par réflexion-absorption infrarouge (IRRAS) ont confirmé le succès de l'individu réactions de modification de surface et de réticulation.
L'analyse ESI-MS a été réalisée à l'aide du Advion Interchim Scientific® exPression® Spectromètre de masse compact (CMS).