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空间分辨的交联纳米层的光刻方法。
卡尔斯鲁厄理工学院
抽象
通过将三甲基丙烯酰基硫代链烷酸酯光刻固定在硅片的表面上，可以制备厚度为1-2 nm并具有预定形状的交联纳米片，然后通过光致反应用2-（苯甲硫基）乙酰胺基官能化硅片。 随后通过自由基聚合以及在温和条件下在表面上进行光触发的Diels-Alder反应进行的交联产生了所需的纳米片。 电喷雾电离质谱（ESI-MS），X射线光电子能谱（XPS），飞行时间二次离子质谱（ToF-SIMS）以及红外反射吸收光谱（IRRAS）证实了个人的成功表面改性和交联反应。
使用 Advion Interchim Scientific 进行 ESI-MS 分析® exexpression® 紧凑型质谱仪（CMS）。